Offeryn Graffit Gorchuddio Carbid Silicon, ar gyfer Crefft Epitaxy

Disgrifiad Byr:

Mae Semicera yn cynnig ystod gynhwysfawr o susceptors a chydrannau graffit a gynlluniwyd ar gyfer adweithyddion epitacsi amrywiol.

Trwy bartneriaethau strategol ag OEMs sy'n arwain y diwydiant, arbenigedd deunyddiau helaeth, a galluoedd gweithgynhyrchu uwch, mae Semicera yn darparu dyluniadau wedi'u teilwra i fodloni gofynion penodol eich cais.Mae ein hymrwymiad i ragoriaeth yn sicrhau eich bod yn derbyn yr atebion gorau posibl ar gyfer eich anghenion adweithydd epitaxy.

 


Manylion Cynnyrch

Tagiau Cynnyrch

Disgrifiad

Mae ein cwmni'n darparu gwasanaethau proses cotio SiC trwy ddull CVD ar wyneb graffit, cerameg a deunyddiau eraill, fel bod nwyon arbennig sy'n cynnwys carbon a silicon yn adweithio ar dymheredd uchel i gael moleciwlau SiC purdeb uchel, moleciwlau a adneuwyd ar wyneb y deunyddiau gorchuddio, ffurfio haen amddiffynnol SIC.

tua (1)

tua (2)

Prif Nodweddion

1 .High purdeb SiC graffit gorchuddio

2. Superior gwres ymwrthedd & thermol unffurfiaeth

3. Grisial SiC cain wedi'i orchuddio ar gyfer wyneb llyfn

4. Gwydnwch uchel yn erbyn glanhau cemegol

Prif Fanylebau Gorchudd CVD-SIC

Priodweddau SiC-CVD
Strwythur grisial FCC β cyfnod
Dwysedd g/cm ³ 3.21
Caledwch Vickers caledwch 2500
Maint Grawn μm 2 ~ 10
Purdeb Cemegol % 99.99995
Cynhwysedd Gwres J·kg-1 ·K-1 640
Tymheredd Sublimation 2700
Cryfder Felexural MPa (RT 4-pwynt) 415
Modwlws Young Gpa (tro 4pt, 1300 ℃) 430
Ehangu Thermol (CTE) 10-6K-1 4.5
Dargludedd thermol (W/mK) 300
Gweithle Semicera
Gweithle Semicera 2
Peiriant offer
Prosesu CNN, glanhau cemegol, cotio CVD
Ein gwasanaeth

  • Pâr o:
  • Nesaf: