Cwch Wafer SiC
Cwch wafferi silicon carbidyn ddyfais cynnal llwyth ar gyfer wafferi, a ddefnyddir yn bennaf mewn prosesau tryledu solar a lled-ddargludyddion.Mae ganddo nodweddion megis ymwrthedd gwisgo, ymwrthedd cyrydiad, ymwrthedd effaith tymheredd uchel, ymwrthedd i beledu plasma, gallu dwyn tymheredd uchel, dargludedd thermol uchel, afradu gwres uchel, a defnydd hirdymor nad yw'n hawdd ei blygu a'i ddadffurfio.Mae ein cwmni'n defnyddio deunydd carbid silicon purdeb uchel i sicrhau bywyd y gwasanaeth ac yn darparu dyluniadau wedi'u haddasu, gan gynnwys.fertigol a llorweddol amrywiolcwch waffer.
SiC Paddle
Mae'rpadl cantilifer carbid siliconyn cael ei ddefnyddio'n bennaf wrth orchuddio (trylediad) o wafferi silicon, sy'n chwarae rhan hanfodol wrth lwytho a chludo wafferi silicon ar dymheredd uchel.Mae'n elfen allweddol owafer lled-ddargludyddionsystemau llwytho ac mae ganddo'r prif nodweddion canlynol:
1. Nid yw'n dadffurfio mewn amgylcheddau tymheredd uchel ac mae ganddo rym llwytho uchel ar y wafferi;
2. Mae'n gallu gwrthsefyll oerfel eithafol a gwres cyflym, ac mae ganddo fywyd gwasanaeth hir;
3. Mae'r cyfernod ehangu thermol yn fach, gan ymestyn y cylch cynnal a chadw a glanhau yn fawr, a lleihau llygryddion yn sylweddol.
Tiwb Ffwrnais SiC
Tiwb proses silicon carbid, wedi'i wneud o SiC purdeb uchel heb amhureddau metelaidd, nid yw'n llygru'r wafer, ac mae'n addas ar gyfer prosesau megis lled-ddargludyddion a phroses tryledu ffotofoltäig, anelio ac ocsideiddio.
Braich Robot SiC
Braich robot SiC, a elwir hefyd yn effeithydd diwedd trosglwyddo wafferi, yn fraich robotig a ddefnyddir i gludo wafferi lled-ddargludyddion ac fe'i defnyddir yn eang yn y diwydiannau lled-ddargludyddion, optoelectroneg ac ynni solar.Gall defnyddio carbid silicon purdeb uchel, gyda chaledwch uchel, ymwrthedd gwisgo, ymwrthedd seismig, defnydd hirdymor heb anffurfiad, bywyd gwasanaeth hir, ac ati, ddarparu gwasanaethau wedi'u haddasu.
Graffit ar gyfer twf grisial
Tarian gwres graffit
Tiwb electrod graffit
Gwyriad graffit
Chuck graffit
Mae'r holl brosesau a ddefnyddir ar gyfer tyfu crvstals lled-ddargludyddion yn gweithredu mewn amgylcheddau tymheredd uchel a chyrydol.Mae parth poeth y ffwrnais twf grisial fel arfer yn cynnwys purdeb uchel sy'n gwrthsefyll gwres ac sy'n gwrthsefyll cyrydiad.cydrannau graffit, megis gwresogyddion graffit, crucibles, silindrau, deflector, chucks, tiwbiau, modrwyau, dalwyr, cnau, ac ati Gall ein cynnyrch gorffenedig gyflawni cynnwys lludw llai na 5ppm.
Graffit ar gyfer Epitaxy Lled-ddargludyddion
Sylfaen Graffit
Casgen Epitaxial Graffit
Sylfaen Epitaxial Silicon Stalline Monocry
Rhannau Graffit MOCVD
Gosodiad Graffit Lled-ddargludyddion
Mae proses epitaxial yn cyfeirio at dwf deunydd crisial sengl ar swbstrad grisial sengl gyda'r un trefniant dellt â'r swbstrad.Mae angen llawer o rannau graffit purdeb uwch-uchel a sylfaen graffit gyda gorchudd SIC.Mae gan y graffit purdeb uchel a ddefnyddir ar gyfer epitaxy lled-ddargludyddion ystod eang o gymwysiadau, a all gydweddu â chyfarpar a ddefnyddir amlaf yn y diwydiant, Ar yr un pryd, mae ganddo uchel iawn.purdeb, cotio unffurf, bywyd gwasanaeth rhagorol, ac ymwrthedd cemegol hynod o uchel a sefydlogrwydd thermol.
Deunydd Inswleiddio ac eraill
Deunyddiau inswleiddio thermol a ddefnyddir mewn cynhyrchu lled-ddargludyddion yw ffelt caled graffit, ffelt meddal, ffoil graffit, deunyddiau cyfansawdd carbon, ac ati Mae ein deunyddiau crai yn ddeunyddiau graffit wedi'u mewnforio, y gellir eu torri yn unol â manyleb cwsmeriaid, a gellir eu gwerthu hefyd fel a. cyfan.Fel arfer defnyddir deunydd cyfansawdd carbon fel cludwr ar gyfer proses gynhyrchu celloedd monocrystal solar a polysilicon.