Mae ein cwmni'n darparuCotio SiCgwasanaethau prosesu ar wyneb graffit, cerameg a deunyddiau eraill trwy ddull CVD, fel y gall nwyon arbennig sy'n cynnwys carbon a silicon ymateb ar dymheredd uchel i gael moleciwlau Sic purdeb uchel, y gellir eu hadneuo ar wyneb deunyddiau wedi'u gorchuddio i ffurfio aHaen amddiffynnol SiCar gyfer casgen epitaxy math hy pnotig.
Prif nodweddion:
1 .High purdeb SiC graffit gorchuddio
2. Superior gwres ymwrthedd & thermol unffurfiaeth
3. GainSiC grisial wedi'i orchuddioar gyfer wyneb llyfn
4. Gwydnwch uchel yn erbyn glanhau cemegol
Prif Fanylebau oGorchudd CVD-SIC
| Priodweddau SiC-CVD | ||
| Strwythur grisial | FCC β cyfnod | |
| Dwysedd | g/cm ³ | 3.21 |
| Caledwch | Vickers caledwch | 2500 |
| Maint Grawn | μm | 2 ~ 10 |
| Purdeb Cemegol | % | 99.99995 |
| Cynhwysedd Gwres | J·kg-1 ·K-1 | 640 |
| Tymheredd Sublimation | ℃ | 2700 |
| Cryfder Felexural | MPa (RT 4-pwynt) | 415 |
| Modwlws Young | Gpa (tro 4pt, 1300 ℃) | 430 |
| Ehangu Thermol (CTE) | 10-6K-1 | 4.5 |
| Dargludedd thermol | (W/mK) | 300 |
